ACCUEIL

Consignes aux
auteurs et coordonnateurs
Nos règles d'éthique
Auteurs : soumettez
votre article en ligne
Autres revues >>

Annales de Chimie - Science des Matériaux

0151-9107
 

 ARTICLE VOL 32/4 - 2007  - pp.365-382  - doi:10.3166/acsm.32.365-382
TITRE
Profils d'implantation des positons dans des couches de surface des solides

TITLE
Positron depth profiling in solid surface layers

RÉSUMÉ

Nous passons brièvement en revue les principes de la méthode de l'élargissement Doppler de la raie d'annihilation des positons, technique la plus fréquemment utilisée en analyse de surface des solides par faisceau à courant continu. Nous considérons quelques d'applications technologiques de la caractérisation par spectroscopie d'implantation des positons lents (SPIS), telles que, par exemple, i) les transitions de phases éventuellement induites par contraintes internes dans les dépôts métalliques, ii) l'influence de prétraitements du substrat ou de recuits sur le profil des défauts aux interfaces métal/polymère ou dans des couches déposées, et iii) la modification structurale par implantation ionique en proche surface de céramiques et de multicouches. Dans tous les cas nous envisageons l'éventualité d'utiliser la technique SPIS et les particularités des profils de défauts comme critères dans des contrôles de qualité en ligne ou en post-production industrielle. Enfin, nous concluons par un panorama des caractéristiques de mise en oeuvre des techniques de spectroscopie d'annihilation des positons.



ABSTRACT

We briefly review the principles of the Doppler Broadening of the positron annihilation radiation line, the most common technique used in defect depth profiling of solids relevant to dc-beams. We focus on some specific examples of Slow Positron Implantation Spectroscopy (SPIS) investigations related to technological issues such as, for instance, i) phase transitions in metal coatings possibly induced by internal stresses, ii) substrate pre-treatment or annealing dependence of defect profiles at metal/polymer interfaces or in the deposited layers, and. iii) near-surface structural modification by ion implantation in ceramics and multilayers. In each case we elaborate on the possibility of using SPIS results and possible depth profile features as criteria for on- or off-line quality control in industrial processes. We finally conclude with an overall picture of the operating characteristics of positron annihilation techniques.



AUTEUR(S)
Robert I. GRYNSZPAN, Wolfgang ANWAND, Gerhard BRAUER, Paul G. COLEMAN

Reçu le 8 mars 2007.    Accepté le 23 avril 2007.

LANGUE DE L'ARTICLE
Anglais

 PRIX
• Abonné (hors accès direct) : 7.5 €
• Non abonné : 15.0 €
|
|
--> Tous les articles sont dans un format PDF protégé par tatouage 
   
ACCÉDER A L'ARTICLE COMPLET  (3,26 Mo)



Mot de passe oublié ?

ABONNEZ-VOUS !

CONTACTS
Comité de
rédaction
Conditions
générales de vente

 English version >> 
Lavoisier