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Annales de Chimie - Science des Matériaux

0151-9107
 

 ARTICLE VOL 32/4 - 2007  - pp.383-394  - doi:10.3166/acsm.32.383-394
TITRE
Caractérisation de matériaux en couches minces par spectroscopie d'électrons Auger et décapage ionique

TITLE
Characterization of metallic oxide thin-layer materials by Auger Electron Spectroscopy (AES) combined with Ar+ ion etching

RÉSUMÉ
La spectroscopie Auger (AES) est une méthode analytique qui permet de déterminer la composition atomique et, dans plusieurs cas, l'état chimique des atomes de la surface d'une matière solide. La pulvérisation cathodique (sputtering) employée en alternance avec les spectres Auger permet d'obtenir des profils de concentration, où la composition de l'échantillon est mesurée en fonction de la profondeur. Dans cet article, quelques exemples d'emploi de cette technique pour analyser des couches minces d'oxydes de surface sont discutés. Les profils de concentration des couches minces et de l'interface, aussi bien que l'état chimique des composants et les mesures de l'épaisseur des couches minces sont examinés.

ABSTRACT
Auger Electron Spectroscopy (AES) is an analytical technique used to determine the elemental composition and, in many cases, the chemical state of atoms in the surface region of a solid material. Sputter etching performed sequentially with Auger spectra results in sputter depth profiles, in which the composition of a sample is measured as a function of depth. In this paper, application of the above technique in examining thin surface oxide films is discussed on the basis of several examples. Composition depth profiles of the films and the film/substrate interphase region, as well as the chemical state of the film components and determination of the film thickness are considered.

AUTEUR(S)
Marcin PISAREK

Reçu le 16 février 2007.    Accepté le 28 mai 2007.

LANGUE DE L'ARTICLE
Anglais

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